在反射镜真空下镀膜的原因分析

2019-12-05 点击数：959

根据多年的经验发现，反射镜真空镀膜在常压下蒸镀膜料无法构成较好的薄膜，事实上，如在压力不够低(或者说真空度不够高)的情况下同样得不到好的成果，比如在10托数量级下蒸镀铝，得到的膜层不光不亮光，乃至发灰、发黑，而且机械强度极差，用松鼠毛刷轻轻一刷即可将铝层损坏。蒸镀必须在一定的反射镜真空条件下进行，这是因为：

反射镜真空镀膜

（1）较高的真空度能够确保汽化分子的平均自在程大于蒸腾源到基底的间隔。
因为气体分子的热运动，分子之间的磕碰也是较频繁的，所以尽管气体分子运动的速度适当的高(可达每秒几百米)，可是因为它在行进的进程中要与其它分子屡次磕碰，一个分子在两次接连磕碰之间所走的间隔被称为它的自在程，而很多分子自在程的计算平均值就被称为分子的平均自在程。
因为气体压强与单位体积的分子数成正比，因而平均自在程与气体的压强亦成正比。
在真空淀积薄膜进程中，当淀积间隔大于分子的平均自在程时被称为低真空淀积，而当淀积间隔小于分子的平均自在程时被称为高真空淀积。在高真空淀积时，蒸腾原子(或分子)与剩余气体分子间的磕碰能够忽略不计，因而汽化原子是沿直线飞向基片的，这样坚持较大动能到达基片的汽化原子即能够在基片上凝结成较牢固的膜层。在反射镜真空镀膜低真空淀积时，因为磕碰的成果会使汽化原子的速度和方向都发生变化，乃至可能在空间生成蒸汽原子集合体—其道理与水蒸汽在大气中生成雾类似。
（2）在较高的真空度下能够削减剩余气体的污染
在真空度不太高的情况下，真空室内含有众多的剩余气体分子(氧、氮、水及碳氢化合物等)，它们能给薄膜的镀制带来极大的危害。它们与汽化的膜料分子磕碰使平均自在程变短；它们与正在成膜的表面磕碰并与之反响；它们隐藏在已构成的薄膜中逐渐侵蚀薄膜；它们与蒸腾源高温化合削减其使用寿命；它们在已蒸腾的膜料表面上构成氧化层使蒸镀进程不能顺畅进。
以上就是对于反射镜真空镀膜需要在真空下进行的原因分析，有以上的两个原因分析，希望对大家有所帮助。

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